1. Identificação | |
Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
Site | mtc-m16d.sid.inpe.br |
Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
Identificador | 8JMKD3MGP7W/3DBLKLE |
Repositório | sid.inpe.br/mtc-m19/2013/01.08.11.17 (acesso restrito) |
Última Atualização | 2013:02.18.14.01.18 (UTC) administrator |
Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m19/2013/01.08.11.17.07 |
Última Atualização dos Metadados | 2018:06.05.04.13.42 (UTC) administrator |
Chave Secundária | INPE--PRE/ |
ISSN | 0169-4332 |
Chave de Citação | PillacaUedaKostReut:2012:StPlIm |
Título | Study of plasma immersion ion implantation into silicon using magnetic mirror geometry |
Ano | 2012 |
Data de Acesso | 21 maio 2024 |
Tipo Secundário | PRE PI |
Número de Arquivos | 1 |
Tamanho | 500 KiB |
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2. Contextualização | |
Autor | 1 Pillaca, E. J. D. M. 2 Ueda, M. 3 Kostov, K. G. 4 Reuther, H. |
Grupo | 1 2 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR |
Afiliação | 1 2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) |
Endereço de e-Mail do Autor | 1 2 ueda@plasma.inpe.br |
Endereço de e-Mail | marcelo.pazos@inpe.br |
Revista | Applied Surface Science |
Volume | 258 |
Número | 24 |
Páginas | 9564-9569 |
Nota Secundária | B2_ASTRONOMIA_/_FÍSICA B2_BIOTECNOLOGIA B2_CIÊNCIAS_BIOLÓGICAS_I B2_CIÊNCIAS_BIOLÓGICAS_II B1_ECOLOGIA_E_MEIO_AMBIENTE B1_ENGENHARIAS_II A2_ENGENHARIAS_III A1_ENGENHARIAS_IV B2_FARMÁCIA B1_GEOCIÊNCIAS A1_INTERDISCIPLINAR B2_MATEMÁTICA_/_PROBABILIDADE_E_ESTATÍSTICA B1_MATERIAIS B1_MEDICINA_II B1_MEDICINA_III B1_ODONTOLOGIA B2_QUÍMICA A2_SAÚDE_COLETIVA |
Histórico (UTC) | 2013-02-18 14:03:28 :: marcelo.pazos@sid.inpe.br -> administrator :: 2012 2018-06-05 04:13:42 :: administrator -> marcelo.pazos@inpe.br :: 2012 |
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3. Conteúdo e estrutura | |
É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
Estágio do Conteúdo | concluido |
Transferível | 1 |
Tipo do Conteúdo | External Contribution |
Tipo de Versão | publisher |
Palavras-Chave | plasma immersion ion implantation with magnetic field silicon magnetic mirror geometry crossed E × B fields |
Resumo | The effect of magnetic field enhanced plasma immersion ion implantation (PIII) in silicon substrate has been investigated at low and high pulsed bias voltages. The magnetic field in magnetic bottle configuration was generated by two magnetic coils installed outside the vacuum chamber. The presence of both, electric and magnetic field in PIII creates a system of crossed E×B fields, promoting plasma rotation around the target. The magnetized electrons drifting in crossed E×B fields provide electron-neutral collision. Consequently, the efficient background gas ionization augments the plasma density around the target where a magnetic confinement is achieved. As a result, the ion current density increases, promoting changes in the samples surface properties, especially in the surface roughness and wettability and also an increase of implantation dose and depth. |
Área | FISPLASMA |
Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Study of plasma... |
Conteúdo da Pasta doc | acessar |
Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
Conteúdo da Pasta agreement | |
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4. Condições de acesso e uso | |
Grupo de Usuários | marcelo.pazos@inpe.br |
Grupo de Leitores | administrator marcelo.pazos@inpe.br |
Visibilidade | shown |
Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft24 |
Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
Permissão de Atualização | não transferida |
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5. Fontes relacionadas | |
Repositório Espelho | iconet.com.br/banon/2006/11.26.21.31 |
Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS |
Lista de Itens Citando | sid.inpe.br/bibdigital/2013/09.25.21.49 1 |
Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX. |
Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02 |
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6. Notas | |
Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel doi format isbn label language lineage mark month nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate session shorttitle sponsor subject targetfile tertiarymark tertiarytype typeofwork url |
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7. Controle da descrição | |
e-Mail (login) | marcelo.pazos@inpe.br |
atualizar | |
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